薄膜沉积设备

高能离子注入及沉积增强系统

用 途：各种陶瓷、金属、玻璃、聚合物等表面高能离子注入处理及薄膜沉积

主要指标：

高能气体离子源，加速电压10-70KV连续可调，最大束流8mA，最大束斑100mm；

高能金属离子源加速电压10-50KV连续可调，最大束流8mA，最大束斑100mm；

低能气体溅射离子源，能量0.5-3.0KV，束流10-100mA可调；

低能清洗气体离子源，能量0.5-1.5KV，束流10-50mA可调。

样品要求：固体