中国科学院兰州化物所固体润滑实验室
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高能离子注入及沉积增强系统
日期:2012-08-21 | | 【

薄膜沉积设备

 

高能离子注入及沉积增强系统

 途:各种陶瓷、金属、玻璃、聚合物等表面高能离子注入处理及薄膜沉积

主要指标:

高能气体离子源,加速电压10-70KV连续可调,最大束流8mA,最大束斑100mm

高能金属离子源加速电压10-50KV连续可调,最大束流8mA,最大束斑100mm

低能气体溅射离子源,能量0.5-3.0KV,束流10-100mA可调;

低能清洗气体离子源,能量0.5-1.5KV,束流10-50mA可调。

样品要求:固体

 

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