报告题目：亚10nm图形加工及应用 

　　报 告 人：段辉高教授，湖南大学物理与微电子科学学院 

　　报告时间：11月13日下午4:00 

　　报告地点：材料楼四楼会议室 

　　报告内容简介： 

　　高分辨纳米加工是集成电路的核心技术，也在纳米光学以及纳米电子学等基础研究领域起着关键的作用。报告第一部分将介绍我们近些年在电子束以及离子束曝光分辨率极限方面的工作。通过研究这些曝光方法的分辨率限制因素以及优化它们的工艺参数，可实现10nm以下周期（5nm半周期）的分辨率，最小线宽可达到3nm。报告的第二部分将着重介绍这些纳米加工方式在表面等离激元光子学器件制作、纳米光学防伪、可控自组装以及高密度磁存储器件中的应用。报告中，报告人还将通过多个实例分享其在做科研中的乐趣以及创新的经验。 

　　报告人简介： 

　　段辉高，男，1982年生，湖南大学教授，博士生导师。分别于2004年和2010年获兰州大学学士和博士学位。2012年获“全国百篇优秀博士学位论文奖”。2006年至2012年间，先后在中国科学院电工研究所、美国麻省理工学院、新加坡科技研究局、德国斯图加特大学从事研究工作，2012年2月加入湖南大学开展独立科研工作。在Nature Nanotechnology、Advanced Materials、Nano Letters等期刊发表SCI论文70余篇，目前主持国家自然基金面上项目2项、青年基金1项、全国优秀博士论文资助基金1项、教育部新世纪优秀人才项目1项、湖南省杰出青年科学基金1项以及湖湘青年英才项目等。申请新加坡专利3项，PCT国际专利1项，获授权澳大利亚专利1项。目前重点从事的研究方向包括亚10nm尺度图形加工、纳米彩色介质应用于显示/传感/光学防伪、高性能光电器件开发及其应用。